
Mówią śmieci
28 października 2008, 09:46Niemieccy naukowcy z najdrobniejszymi szczegółami odtworzyli codzienne życie Marcina Lutra. Dokonali tego, przekopując się przez śmiecie zebrane w 3 jego domach. Zajęło im to 5 lat, ale dzięki uporowi zdobyli kufle z przykrywkami, garnki, złotą obrączkę ślubną żony reformatora Katarzyny, 250 srebrnych monet, a także lekarstwa na różne dolegliwości, m.in. anginę i zatwardzenie.

Robot przepisuje Torę
11 lipca 2014, 07:05W Muzeum Żydowskim w Berlinie zaprezentowano robota, który przepisywał Torę. Urządzenie jest znacznie szybsze od rabina, jednak Tora przepisana przez robota nie może być używana w synagodze.

Antyoblodzeniowe rozwiązania pingwinów
25 listopada 2015, 11:28Choć antarktyczne pingwiny raz po raz wskakują do wody o temperaturze bliskiej zamarzania, ich pióra wcale nie ulegają oblodzeniu. Gdy naukowcy dokładnie przyjrzeli się ich budowie, stwierdzili, że superhyrofobowość to wynik połączenia nanostruktur i specjalnego tłuszczu.

Dzięki skrzydłom sów turbiny wiatrowe mogą się stać cichsze
5 lipca 2017, 12:07Skrzydła sów mogą się stać kluczem do cichszych i bardziej wydajnych łopat turbin wiatrowych, silników dronów czy skrzydeł samolotów.

Nie tylko Intel
15 października 2009, 11:04Już nie tylko dane z Intela mówią o wychodzeniu rynku IT z kryzysu. Optymistycznych informacji dostarcza też firma ASML, producent urządzeń do litografii. W trzecim kwartale bieżącego roku holenderskie przedsiębiorstwo sprzedało usługi i urządzenia o łącznej wartości 555 milionów euro.

Prawo Moore'a zagrożone?
6 października 2012, 09:12Eksperci zgromadzeni na Międzynarodowym sympozjum nt. litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie uznali, że prawo Moore'a może być zagrożone przez opóźniające się prace nad narzędziami do EUV

Nowy fotorezyst dla technologii 20 nanometrów
17 listopada 2009, 12:53Toshiba poinformowała o opracowaniu fotorezystu, który współpracuje z litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) i jest pierwszym nadającym się do wykorzystania w 20-nanometrowym procesie produkcyjnym.

Jest przyszłość przed litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie?
27 lutego 2014, 11:16W czasie dwóch osobnych wystąpień na konferencji SPIE Lithography, przedstawiciele Intela i TSMC ożywili oczekiwania na rozwój litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV). Z technologią tą od dawna łączy się wielkie nadzieje

Intel omija problemy z EUV
1 marca 2010, 15:59Podczas konferencji LithoVision 2010 wiele uwagi przyciągnęło wystąpienie przedstawicieli Intela. Z jednej strony poinformowali oni, że technologia litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) pojawi się, jak dla niej, zbyt późno, z drugiej zaś - że dostosują obecnie używane narzędzia do produkcji 11-nanometrowych układów scalonych.

Komiks na włosie
13 maja 2014, 06:37Najmniejszy na świecie komiks pt. "Juana Knits The Planet" wygrawerowano na powierzchni ludzkiego włosa.